| 是否进口：否 | 品牌：力芯电子科技 | 型号：全自动 |
我司设计生产 半导体清洗设备、CDS系统、电化学镀设备各种石英存储柜、阀箱、花篮、阀门、泵、接头PFA焊接机等。
半导体清洗设备：包含手动/自动/半自动槽式清洗机、全自动去胶机、自动混酸蚀刻机、单片清洗机等等 ，可根据客户需求定制产品
CMP预清洗机是一种用于化学机械抛光（CMP）工艺前的晶圆清洗设备，主要用于去除晶圆表面的杂质和残留物，以确保CMP工艺的顺利进行。
现代CMP预清洗机通常采用高度自动化的设计，能够实现***控制和远程监控，提高操作效率和安全性。同时，该设备设计有排风系统和漏液检测系统，便于维护，提高了设备的安全性和可靠性。
应用领域
CMP预清洗机广泛应用于半导体制造领域，特别是在晶圆级预烧、磁性退火、黏晶固化、稳定性测试、热冲击处理等工艺中，对晶圆的清洗要求极高。
选择建议
在选择CMP预清洗机时，用户应考虑其清洗能力、设备安全性、环保性能等多个因素。同时，还应关注设备是否具备特定的功能如自动补液、药液循环过滤等，以确保获得的清洗效果和经济效益
